新聞資訊

                      產品分類

                      聯系我們

                      地址:北京市昌平區西三旗上奧世紀中心A座

                      電話:13911005996 

                      傳真:010-69731920

                      郵箱:xu872@bjpram.com

                      QQ:983851550

                      網址:www.malwarrior.com


                      磁控濺射靶材的原理介紹

                      您的當前位置: 首 頁 >> 新聞動態 >> 公司新聞

                      磁控濺射靶材的原理介紹

                      發布日期:2016-03-29 00:00 來源:http://www.malwarrior.com 點擊:

                          磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,  在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,Z終沉積在基片上。

                        磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用( E X B drift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關系。 在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已。


                      相關標簽:合金靶材

                      Z近瀏覽:

                      在線客服
                      分享
                      歡迎給我們留言
                      請在此輸入留言內容,我們會盡快與您聯系。
                      姓名
                      聯系人
                      電話
                      座機/手機號碼
                      99 热久久精品视频在线观看,日本无码av2018一区二区,91在线手机版免费观看,swag视频在线高观看,亚洲日韩在线视频国产印度越南,国产主播自慰到喷水,少女萝莉轴木,国产网红汽车