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                      未來ITO靶材發展趨勢

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                      未來ITO靶材發展趨勢

                      發布日期:2016-03-29 00:00 來源:http://www.malwarrior.com 點擊:

                      未來ITO靶材發展大致有以下的趨勢:

                        1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細化發展的趨向,以及它的驅動程序不同,需要更小電阻率的透明導電膜。

                        2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時,有效濺射表面積會減少,濺射速度也會降低,靶材表面黑化趨勢加劇。高密度靶的表面變化少,可以得到低電阻膜。靶材密度與壽命也有關,高密度的靶材壽命較長,意味著可降低靶材成本。

                        3.尺寸大型化。隨著液晶模塊產品輕薄化和低價化趨勢的不斷發展,相應的ITO玻璃基板也出現了明顯的大型化的趨勢,因此ITO靶材單片尺寸大型化不可避免。

                        4.靶材本體一體化。如前所述,靶材將朝大面積發展,以往技術能力不足時,必須使用多片靶材拼焊成大面積,但由于接合處會造成鍍膜質量下降,因此目前大多以一體成形為主,以提升鍍膜質量與使用率。未來新世代LCD玻璃基板尺寸的加大,對靶材生產廠家是一項嚴苛的挑戰。

                        5.使用高效率化。靶材使用率的提升,一直是設備商、使用者及靶材制造商共同努力的方向。目前靶材利用率可達40%,隨著液晶顯示器行業對材料成本要求的提高,提高ITO靶材的利用率也將是未來靶材研發的方向之一。


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