新聞資訊

                      產品分類

                      聯系我們

                      地址:北京市昌平區西三旗上奧世紀中心A座

                      電話:13911005996 

                      傳真:010-69731920

                      郵箱:xu872@bjpram.com

                      QQ:983851550

                      網址:www.malwarrior.com


                      靶材的主要性能要求

                      您的當前位置: 首 頁 >> 新聞動態 >> 行業新聞

                      靶材的主要性能要求

                      發布日期:2016-03-29 17:45 來源:http://www.malwarrior.com 點擊:

                      靶材的主要性能要求

                      純度

                          純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。 

                      雜質含量

                          靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 

                      密度

                          為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。 

                      晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

                          通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


                      相關標簽:合金靶材

                      Z近瀏覽:

                      在線客服
                      分享
                      歡迎給我們留言
                      請在此輸入留言內容,我們會盡快與您聯系。
                      姓名
                      聯系人
                      電話
                      座機/手機號碼
                      99 热久久精品视频在线观看,日本无码av2018一区二区,91在线手机版免费观看,swag视频在线高观看,亚洲日韩在线视频国产印度越南,国产主播自慰到喷水,少女萝莉轴木,国产网红汽车